| 加工定制 : | 是 | 品牌 : | 科晶 |
| 型號(hào) : | PECVD | 功率 : | 19kW |
| 電壓 : | 380V | 額定溫度 : | 1100℃ |
| 主要用途 : | 薄膜生長(zhǎng)設(shè)備 | 產(chǎn)品認(rèn)證 : | CE |
科晶提供低壓PECVD法石墨烯制備設(shè)備
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：此款設(shè)備配有Plasma實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)，滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置，可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)節(jié)閥對(duì)于做低壓CVD非常簡(jiǎn)單實(shí)用，工藝重復(fù)性好，對(duì)于石墨烯生長(zhǎng)工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實(shí)驗(yàn)。
主要功能和特點(diǎn)：
1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量；
3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長(zhǎng)。
參數(shù)簡(jiǎn)介：
? ? ? 反應(yīng)室 | 爐管尺寸 | φ60/100/150mm | |
加熱元件 | HRE合金絲 | ||
測(cè)溫元件 | N型熱電偶 | ||
加熱長(zhǎng)度 | 440/600/900mm | ||
工作溫度 | ≤1100℃ | ||
控溫模式 | 模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報(bào)警功能 | ||
控溫精度 | ±1℃ | ||
升溫速率 | ≤20℃/min | ||
電功率 | AC220V/50HZ | ||
供氣系統(tǒng) | 標(biāo)準(zhǔn)量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | |
壓力表測(cè)量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa | ||
極限壓力 | 3MPa | ||
針閥 | 316不銹鋼 | ||
截止閥 | Φ6mm 316不銹鋼針閥 | ||
電功率 | AC220V/50HZ/20W | ||
響應(yīng)時(shí)間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec | ||
準(zhǔn)確度 | ±1.5% | ||
線性 | ±0.5～1.5% | ||
重復(fù)精度 | ±0.2% | ||
接口 | Φ6,1/4'' | ||
真空系統(tǒng) | 工作電電壓 | 220V±10% ?50~60HZ | |
功率 | 400W | ||
抽氣速率 | 4Ls | ||
極限真空 | 4X10-2Pa | ||
實(shí)驗(yàn)真空度 | 1.0X10-1Pa | ||
容油量 | 1.1L | ||
進(jìn)氣口口徑 | KF25 | ||
排氣口口徑 | KF25 | ||
轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | ||
射頻電源 | 信號(hào)頻率 | 13.56 MHz±0.005% | |
功率輸出范圍 | 3W-300W ??5W-500W可選 | ||
反射功率 | 200W | ||
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female | ||
功率穩(wěn)定度 | ±0.1% | ||
諧波分量 | ≤-50dbc | ||
供電電壓 | 單相交流（187V-253V）?頻率50/60HZ | ||
整機(jī)效率 | >=70% | ||
功率因素 | >=90% | ||
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 | ||
